Bornitrid keramikk i vakuumovner

Bornitrid (BN) keramikk, spesielt sekskantet bornitrid (H-BN), Excel i vakuumovner hovedsakelig på grunn av deres unike fysiske og kjemiske egenskaper. Følgende er en detaljert analyse av deres utmerkede ytelse:

1. Utmerket høye temperaturmotstand

Høyt smeltepunkt: Meltepunktet for bornitrid er omtrent 3000 grader, og det kan brukes stabilt i vakuummiljø i lang tid ved en høy temperatur på 1800 ~ 2000 grader, som er langt mer enn de fleste av de keramiske materialene (f.eks. Smeltepunktet for aluminiumoksyd er 2072 grader).

Termisk sjokkmotstand: Lav termisk ekspansjonskoeffisient (≈1 × 10- ⁶\/ grad, lik kvarts) kombinert med høy termisk ledningsevne (30 ~ 60 W\/ MK, vertikal laminær retning), slik at det ikke er lett å sprekke i den raske temperaturendringen.

2. Utmerket kjemisk stabilitet

Inert miljømessig tilpasningsevne **: Under vakuum eller inert atmosfære har den sterk korrosjonsmotstand mot smeltede metaller (f.eks. Aluminium, kobber), salter og sure miljø, og unngår reaksjon med ovnsmaterialer.

Lav utgassingshastighet: Nesten ingen frigjøring av gasser (f.eks. H₂O, CO₂) ved høye temperaturer, og opprettholder et høyt vakuum (mindre enn eller lik 1 × 10- ⁵ PA), noe som reduserer risikoen for forurensning.

3. Unike elektriske isolasjons- og smøreegenskaper

Høytemperaturisolasjon: Resistivitet så høy som 10⁴ ~ 10⁶ ω-CM (opprettholder fortsatt 10⁶ ω-CM ved 1000 grader), egnet for isolering av deler av nærliggende elektriske oppvarmingselementer.

Selv-sprudlende: Den laminære strukturen gir en lav friksjonskoeffisient (0. 2 ~ 0. 3), redusere slitasje av kontaktdeler og forlenge levetiden.

4. Balanse mellom maskinbarhet og mekanisk styrke

Enkel maskinbarhet: MOHS Hardness er bare 2, den kan bearbeides i komplekse former (for eksempel tynnveggede digler, presisjonsarmaturer), og reduserer produksjonskostnadene.

Moderat styrke: Bøyningsstyrke er omtrent 30 ~ 100 MPa, som er lavere enn for silisiumkarbid (400 ~ 600 MPa), men lastekapasiteten kan forbedres ved sammensatt armering (f.eks. SIC -fiber).

5. Typiske applikasjonsscenarier

Produksjon av halvleder: Brukes som varmeplate med MOCVD -utstyr, enhetlig varmeledning for å sikre kvaliteten på epitaksial wafer.

Metallbehandling: Brukes som digelmateriale for vakuumsinterende ovn, smelter titanlegering med høy renhet (for eksempel Ti -6 al -4 v) uten forurensning.

Krystallvekst: Skjerm for varmeisolasjon for Sapphire enkeltkrystallovn, og fungerer kontinuerlig ved 2000 grader i 1000 timer uten deformasjon.

6.comParative fordeler med annet materiale

VS-grafitt: Grafitt er ledende og har lav styrke ved høy temperatur (mykner lett i inert atmosfære), mens H-BN er isolerende og stabil ved høy temperatur.

Vs al₂o₃: Aluminiumoksyd har dårlig termisk ledningsevne (~ 30 W\/ MK) og svak termisk sjokkmotstand (termisk ekspansjonskoeffisient på 8 × 10- ⁶\/ grad), ikke egnet for rask temperaturstigning og høstscenarier.

VS Si*: Silisiumkarbid er elektrisk ledende og vanskelig å behandle, og kan ikke brukes til å isolere deler.

7. Potensielle begrensninger og forbedringer

Risiko for oksidasjon: oksiderer til b₂o₃ i luft over 800 grader, krever strengt vedlikehold av vakuum eller inert atmosfære.

Styrkeforbedring: Ved sammensatt av H-BN og Tib₂ kan bøyestyrken økes opp til 200 MPa, og utvide påføringen under tunge belastningsforhold.

Shengyang New Material Co., Ltd. er forpliktet til produksjon av bornitrid og bornitridbearbeidede produkter, og kan tilpasse forskjellige bornitridisolerende keramiske deler i henhold til kundebehov. Kontakt oss om nødvendig.
Tlf: +8618560961205
E -post: sales@zbsyxc.com